在实验大楼里面，周晓东陪同杨力持来到研制汞灯光源系统以及电子束系统和离子源系统技术研发部门。

  这几个技术部门分成了众多的技术小组，每一个技术部门都有数十上百名的技术研发人员，由技术专家牵头，下面全都是硕士博士以及高级工程师。

  雅迪电子科技公方面从海内外招募了不少的技术专家，并从国内高校招募了相当多的人才组建研发团队和技术部门，这些技术研发部门围绕着这些半导体设备核心关键系统从事最基础的材料工艺和系统原理方面的研发。

  周晓东也舍得投入，投入重金购置了很多研发实验设备，市面上买不到的设备就自己动手。

  不久前周晓东从软体集团公司拿到了一大笔的钱，光是雅迪电子科技公司手头上就持有大量的现金，周晓东更是加大在半导体设备制造技术方面的投入，大力地招募这些方面需要的技术研发人员和工程技术人员。

  这个是周晓东在芯片制造环节实施的备胎计划，他的计划是每年都要在这些方面投入几十亿，在这方面打造出上万人的技术研发团队来，为的就是即使在最恶劣的情况下自身依然有能力让让自身的晶圆生产线持续运转，并且依然能够推动芯片制程工艺的升级。

  前世记忆中米国这个世界超级大国脸都不要了，动用国家的力量想弄死国内的华泰集团公司，这件事对周晓东触动太大了，所以重生的他拼命地靠自己脑海中的技术专利和自己的才能拼命地研制产品设备赚钱，同时靠赚来的钱往半导体设备技术上砸钱砸人，为的就是能在极度险恶的环境下依然能让自己的公司活下去。

  他自身在芯片设计以及芯片制程工艺技术上上是天才，现在这些技术领域他自己把关，而且技术团队正在按照他的技术构想方案稳步地进行研发，可以说是用很少的钱取得了相当大的进展突破，并且已经通过跟利飞浦集团私下里进行技术交换得到了他想要的一些芯片器件种类和技术。

  现在米国方面即使一片高端芯片都不卖给周晓东的公司，周晓东旗下的公司依然有本事让自家的产品设备用上很好的芯片器件，这方面他并不担心什么。

  目前周晓东旗下公司只掌握了光刻机这种设备技术，另外还在和罗志平先生的中微半导体合作研制刻蚀机设备，剩下的设备国内能自行设计生产的企业极少，只有中科院旗下的一些研究所在进行相关一些技术的预研，很难形成产业化。

  周晓东知道自己的公司现在发展很快，已经引起了不少国外公司的注意力，说不准哪一天米国方面就突然出手了，他心中着急呀，只得自己砸钱招募技术团队，一边和华科电子科技在香江那边成立一家公司专门从事二手半导体设备的采购生意。

  这家公司在米国和欧洲设立了办事处，专门盯着这些晶圆厂和设备产商，采购这些二手的六英寸和八英寸晶圆生产设备。

  今年下半年这家叫雪球半导体科技按照周晓东的意思已经弄回来了上千台的二手半导体设备。

  周晓东旗下的几家公司都是成立了专门的技术部门对自身需要的这些设备进行一边进行拆解分析仿制，一边将剩下的半导体设备进行翻新维修自己使用。

  现在岭南省这边的多座晶圆生产线相当大一部分设备都是雪球半导体科技公司弄回来的，少量是从半导体设备产商直接采购的，可以说让岭南省这边投资建设的多座晶圆生产线节省了相当大的一笔开支。

  现阶段能让周晓东优先的目标是通过这种采购二手设备的方式来绕开瓦森纳协议的束缚，既然买不到最新的半导体设备，那就大量买二手设备回来自己动手进行翻新维修和升级改造以及仿制。

  活人怎么可能让尿给憋死，周晓东让下面的技术人员对这些二手设备里面的关键系统部件进行仿制才不会理会什么技术专利，造出来的设备到时候能顶得上去就行，好不好用以后再不断升级优化就行。

  而周晓东成立这些汞灯光源系统以及电子束系统和离子源系统技术研发部门就是为了攻克这些半导体设备关键系统部件在材料工艺技术以及器件设计原理和加工工艺技术方面的技术难题。

  杨力持在实验室见到这些技术专家带着技术团队在实验室生产线自己动手研制这种超高压新型的汞灯光源系统。

  “领导，一台高性能的高功率汞灯光源系统最主要的是具备非常可靠的高圧点火线路和超高精度的功率控制，为了延长这种高压汞灯的使用寿命，我们专门开发了汞灯电源控制模块，另外在汞灯各种材料和设计上进行技术攻关，研发的目标是要得到稳定度极高的光强……”

  周晓东笑着向杨力持介绍着。

  “要达到这个目标技术难度不小吧？”

  “确实是难度很大，不过为了为了研制出更好的光刻机设备，我们必须把所有的技术细节都做到最好，这个是没办法偷懒的事情。”

  杨力持见到周晓东为了研制更好的光刻机设备如此下苦功夫，心中颇为触动，点头道：“我听说国外已经研发出了更先进的氟化氩光源系统，你们现在在这种汞灯光源系统上如此下功夫，不怕技术落后，投入进去的钱收不回来？”

  周晓东开口说道：“领*导，这种光源系统用到的一些通用技术同样是用到其他光源系统上面的，另外我们在光刻机设备上采用了新设计和新技术，采用这种光源系统的光刻机设备可以使用让我们的制程工艺最大程度能做到一百纳米的样子，足够让我们国内的晶圆生产线工艺技术继续向前提升个两三代，可以给我们国内更先进的光刻机设备换来六七年的研发时间。”